一、設備用途 ：

用于熔煉高熔點金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

二、設備主要技術參數(shù)：

1、型號： KDH-1000

2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室

3、真空系統(tǒng)配置：VRD-30直聯(lián)泵、ISO200口徑JTFB-1200分子泵、一臺高真空插板閥，兩臺氣動擋板閥和旁路閥及管道組成。

4、冷態(tài)極限真空度 ≤6.7x10E-4Pa

5、熔煉電流：額定電流1000A

6、腔室尺寸：￠400*410

7、電源功率：≤60KW

8、熔煉坩堝 設計有五個半球形工位窩。一個半球形￠50*30吸鑄功能的工位，四個￠70*30熔煉除氣工位。五工位均勻規(guī)則排列，工位容重（樣品重量）150-200克。其中1個工位可帶帶磁攪拌功能。

9、工作氣體：Ar氣；

10、翻料方式：手動懸臂翻料，有機械手翻轉組件

11、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧

12、電極桿和機械手均采用球密封機構，簡便有效；電極桿電動升降，操作便攜

13、爐體側部開門，裝卸料方便省去上部打開爐蓋裝卸料的不便，門上有操作觀察窗方便看清內(nèi)部熔化情況。

三、設備組成：

主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、四工位水冷銅坩堝、翻轉機械手、真空吸鑄裝置、工作氣路、系統(tǒng)抽氣、真空測量及電氣控制系統(tǒng)、安裝機臺等各部分組成。

1、電弧熔煉真空室：真空室立式圓筒形設計，結構簡介美觀，側部開有KF快接接口，用于真空閥門及輔助測量原件的安裝，在真空室正前方有一小爐門，側部打開，方便裝卸料。小爐門上有觀察窗，方便在冶煉時觀察爐內(nèi)情況。上部是圓形密封雙層水冷爐蓋，留有電極桿升降安裝孔。

2、電弧槍及電弧槍升降裝置：電弧槍采用水冷設計，可耐高溫，同時頭部快捷安裝設計，便于更換電極鎢針棒。上部密封采用球形窩狀設計，電極圓周方向旋轉自然無卡頓。電極升降采用電動升降，有電機減速機組成，運行平穩(wěn)，同時操作按鈕在升降桿旋轉把手處安裝，操作便攜。

水冷銅坩堝：銅坩堝爐底采用雙側水冷設計，設計有五個工位。一個半球形帶吸鑄功能的工位，四個熔煉除氣工位。五工位均勻規(guī)則排列，工位容重（樣品重量）150-200克。其中1個工位可帶帶磁攪拌功能。

3、翻轉機械手：翻轉機械手也采用球形窩狀設計，方便旋轉翻料。

4、電控系統(tǒng)：電器元器件均采用西門子施耐德等，控制柜體上有操作模擬屏，，便于學習和操作。上面配有冶煉電流指示表，各部件的操作按鈕，故障指示燈等簡潔直觀。

5、吸鑄裝置：在坩堝的前方區(qū)域留有一真空吸鑄工位，吸鑄銅模采用快捷式安裝，方便拆卸，在坩堝底部留有吸鑄真空接口，并配有真空閥門隔斷。吸鑄閥門與一吸鑄緩沖真空罐鏈接，在吸鑄之前先將緩沖罐抽成真空狀態(tài)，待需要吸鑄時打開真空閥門，完成吸鑄動作。模具采用兩瓣拼接組合模式方便，方便拆卸和取料。

6、真空系統(tǒng)及測量：采用TRP-36直聯(lián)泵、JTFB-1200分子泵、三臺氣動擋板閥和各種管路真空系統(tǒng)獨立安裝，采用氣動模式，所有閥門采用快捷安裝方式，方便拆卸，真空系統(tǒng)獨立設計安裝在一可以移動的安裝平臺上，方便對接安裝和供其它設備使用。真空測量采用復合真空計，測量數(shù)顯顯示。可擴展通訊模式。

7、電弧電源：采用電弧熔煉專用電弧電源，最大輸出電流高達1200A,滿足大容量長時間葉琳的需求，具有故障報警指示，安全可靠。

四、設備工程條件：

1、設備總功率：100Kw

2、總進線要求：三相，380V，50Hz

3、設備總重量：≤800Kg

4、設備占地面積：1800*850*1700mm（長*寬*高）

五、售后服務承諾

★出廠安裝調(diào)試實現(xiàn)安裝服務；安裝好后客戶可直接使用。

★設備出廠安裝調(diào)試驗收后質(zhì)量保修期為12個月份，終身維修，一年后收取適當費用。

★服務期內(nèi)如用戶有報修通知，3 小時內(nèi)電話指導，如電話指導用戶不能自選排除即在2個工作日內(nèi)安排人員上門服務。